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  • JW-400DG高温加热台
    JW-400DG高温加热台

    高温加热台适用于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺的,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。可在工矿企业、科研、教育等单位进行老化、温度试验及干燥、烘焙和热处理等作生产、科研、教学之用.

    更新时间:2025-04-18型号:JW-400DG浏览量:2709
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  • JW-220ZT(带盖)400度高温恒温加热台(带盖)
    JW-220ZT(带盖)400度高温恒温加热台(带盖)

    加热台 英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. 400度精密恒温高温加热台烤胶机(升级版):控温范围为室温至400度

    更新时间:2023-11-22型号:JW-220ZT(带盖)浏览量:4727
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  • JW-350BP烤胶机
    JW-350BP烤胶机

    烤胶机适用于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺的,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。

    更新时间:2025-04-18型号:JW-350BP浏览量:1277
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  • JW-350BP晶圆烤胶机
    JW-350BP晶圆烤胶机

    晶圆烤胶机英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-350BP型加热台,控温范围为室温至350度

    更新时间:2025-04-18型号:JW-350BP浏览量:5426
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  • JW-400DG (不带盖)400度JW-400DG精密恒温加热台
    JW-400DG (不带盖)400度JW-400DG精密恒温加热台

    加热台 英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-400DG型加热台(不带盖),控温范围为室温至400度

    更新时间:2023-11-22型号:JW-400DG (不带盖)浏览量:5901
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  • 高温加热台
    高温加热台

    高温加热台英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-230ZK型加热台,可抽真空,充氮气及其他惰性气体控温范围为室温至230度(可按需求订制不同规格、温度)

    更新时间:2025-02-21型号:浏览量:1895
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